韩国媒体:韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了显著进步

2020-11-16 17:03:00　来源：IT之家

2007年11月16日据韩国媒体《韩国商业周刊》上周报道，韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了长足的进步。但是没有提到是哪家公司，应该合理的指韩国整个半导体光刻行业。

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EUV光刻是许多先进技术的综合体，例如多层反射镜、多层掩模、保护膜、光源和注册表。

在过去的十年里，包括三星电子在内的全球公司都进行了深入的研发，以确保技术处于领先地位。最近，代工公司(指三星)开始使用5纳米EUV光刻技术为智能手机生产应用处理器(AP)。

按公司统计，全球六大公司的专利申请数量占总数的59%，卡尔蔡司(德国)占18%，三星电子(韩国)占15%，ASML(荷兰)占11%，SS Tech(韩国)占8%，TSMC(台湾)占6%，SK Hynix(韩国)占1%。

从具体的技术项目来看，31%的专利申请了曝光器件技术，28%的专利申请了掩膜技术，9%的专利申请了其他专利。在工艺技术领域，三星电子占39%，TSMC占15%。口罩领域，SS技术占28%，霍亚(日本)占15%，汉阳大学(韩国)占10%，朝日玻璃(日本)占10%，三星电子占9%。

据悉，韩国媒体也提到了韩国专利的数量。根据韩国知识产权局(KIPO)发布的《近 10 年 (2011-2020 年)专利申请报告》，2019年，韩国提交的专利申请数量为40件，超过了外国企业提交的10件。

韩国媒体称，这是韩国提交的专利申请数量首次超过外国企业。到2020年，韩国提交的专利申请数量将是外国企业的两倍以上。

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